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      6. 場效應管開關(guān)原理與三極管的區(qū)別
        • 發(fā)布時間:2021-03-05 18:24:22
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        場效應管開關(guān)原理與三極管的區(qū)別
        三極管和場效應管的區(qū)別
        三極管(BJT)的三個腳分別命名為:基極(B)、集電極、發(fā)射極(C)。
        場效應管(FET)的三個腳命名為:柵極、源極、漏極。場效應管分為結(jié)型場效應管(JFET)和絕緣柵場效應管(MOS管)兩大類。而MOS場效應晶體管又分為N溝耗盡型和增強型;P溝耗盡型和增強型四大類。
        其中集電極和源極是接地的,基極和柵極是控制極。
        過去記憶這些極,總是忘記,所以問了下兩種管的工作原理。
        1.三極管,是電流驅(qū)動,需要消耗基極電流。所以三極管的放大系數(shù)通過Ic/Ib得到,就是說三極管的放大功能通過基極的電流實現(xiàn)的。
        2.場效應管,是電壓驅(qū)動,柵極不導通,沒有電流經(jīng)過,不消耗電流。它通過電壓使得效應管能電子聚集起來,形成一條電子通道,然后漏極和源極被導通。所以,場效應管是通過導通電子隧道,實現(xiàn)放大功能的。柵極的電壓越高,導通的電流越大,但同時柵極不消耗電流。
        通過上面的對比,總結(jié)下場效應管的優(yōu)缺點:
        優(yōu)點是電流消耗相對少,導通速度快(只要加上電壓,就導通,比三極管通過形成電流導通的方式快)。
        缺點是容易被靜電擊穿。
        應用場景
        場效應管一般比較貴,該技術(shù)使用在內(nèi)存上,例如EPROM,F(xiàn)LASH都是用場效應管保存數(shù)據(jù)。
        結(jié)型場效應管(N溝道JFET)工作原理:
        可將N溝道JFET看作帶“人工智能開關(guān)”的水龍頭。這就有三部分:進水、人工智能開關(guān)、出水,可以分別看成是JFET的 d極 、g 極、s極。
        “人工”體現(xiàn)了開關(guān)的“控制”作用即vGS。JFET工作時,在柵極與源極之間需加一負電壓(vGS<0),使柵極、溝道間的pn結(jié)反偏,柵極電流ig≈0,場效應管呈現(xiàn)高達107ω以上的輸入電阻。在漏極與源極之間加一正電壓(vds>0),使N溝道中的多數(shù)載流子(電子)在電場作用下由源極向漏極運動,形成電流iD。iD的大小受“人工開關(guān)”vGS的控制,vGS由零往負向增大時,PN結(jié)的耗盡層將加寬,導電溝道變窄,vGS絕對值越大則人工開關(guān)越接近于關(guān)上,流出的水(iD)肯定越來越小了,當你把開關(guān)關(guān)到一定程度的時候水就不流了。
        “智能”體現(xiàn)了開關(guān)的“影響”作用,當水龍頭兩端壓力差(vDS)越大時,則人工開關(guān)自動智能“生長”。vDS值越大則人工開關(guān)生長越快,流水溝道越接近于關(guān)上,流出的水(iD)肯定越小了,當人工開關(guān)生長到一定程度的時候水也就不流了。理論上,隨著vDS逐漸增加,一方面溝道電場強度加大,有利于漏極電流iD增加;另一方面,有了vDS,就在由源極經(jīng)溝道到漏極組成的N型半導體區(qū)域中,產(chǎn)生了一個沿溝道的電位梯度。由于N溝道的電位從源端到漏端是逐漸升高的,所以在從源端到漏端的不同位置上,漏極與溝道之間的電位差是不相等的,離源極越遠,電位差越大,加到該處PN結(jié)的反向電壓也越大,耗盡層也越向N型半導體中心擴展,使靠近漏極處的導電溝道比靠近源極要窄,導電溝道呈楔形。所以形象地比喻為當水龍頭兩端壓力差(vDS)越大,則人工開關(guān)自動智能“生長”。
        當開關(guān)第一次相碰時,就是預夾斷狀態(tài),預夾斷之后id趨于飽和。
        當vGS>0時,將使PN結(jié)處于正向偏置而產(chǎn)生較大的柵流,破壞了它對漏極電流iD的控制作用,即將人工開關(guān)拔出來,在開關(guān)處又加了一根進水水管,對水龍頭就沒有控制作用了。
        效應管與三極管的區(qū)別
        絕緣柵場效應管(N溝道增強型MOSFET)工作原理:
        可將N溝道MOSFET看作帶“人工智能開關(guān)”的水龍頭。相對應情況同JFET。與JFET不同的的是,MOSFET剛開始人工開關(guān)是關(guān)著的,水流流不出來。當在柵源之間加vGS>0, N型感生溝道(反型層)產(chǎn)生后,人工開關(guān)逐漸打開,水流(iD)也就越來越大。iD的大小受“人工開關(guān)”vGS的控制,vGS由零往正向增大時,則柵極和P型硅片相當于以二氧化硅為介質(zhì)的平板電容器,在正的柵源電壓作用下,介質(zhì)中便產(chǎn)生了一個垂直于半導體表面的由柵極指向P型襯底的電場,這個電場排斥空穴而吸引電子,P型襯底中的少子電子被吸引到襯底表面,這些電子在柵極附近的P型硅表面便形成了一個N型薄層,即導通源極和漏極間的N型導電溝道。柵源電壓vGS越大則半導體表面的電場就越強,吸引到P型硅表面的電子就越多,感生溝道將越厚,溝道電阻將越小。相當于人工開關(guān)越接近于打開,流出的水(iD)肯定越來越多了,當你把開關(guān)開到一定程度的時候水流就達到最大了。MOSFET的“智能”性與JFET原理相同,參上。
        效應管與三極管的區(qū)別
        絕緣柵場效應管(N溝道耗盡型MOSFET)工作原理:
        基本上與N溝道JFET一樣,只是當vGS>0時,N溝道耗盡型MOSFET由于絕緣層的存在,并不會產(chǎn)生PN結(jié)的正向電流,而是在溝道中感應出更多的負電荷,使人工智能開關(guān)的控制作用更明顯。
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